Programa de Pós-Graduação em Física da UFSC, Florianópolis

O PROGRAMA DE PÓS-GRADUAÇÃO EM FÍSICA convida para o seminário: 

Atomic Layer Deposition: Fundamentos e perspectivas*

Muriel de Pauli – UFSC/FSC – Pós-doutoranda

*Evento de presença obrigatória para os alunos matriculados na disciplina seminários

Resumo:

Neste seminário serão apresentados os princípios gerais do crescimento de filmes finos utilizando a técnica de deposição de camada atômica – Atomic Layer Deposition (ALD). Além disso, iremos discutir perspectivas de trabalhos utilizando filmes finos depositados através da técnica e quais são os parâmetros relevantes durante o processo de crescimento. O controle preciso da espessura do filme, o recobrimento conforme e a larga janela térmica de quimisorção permitem que esta técnica possa ser aplicada para diferentes classes de materiais. Filmes de óxidos obtidos a partir de ALD são largamente utilizados como recobrimentos protetores, barreiras isolantes em dispositivos eletrônicos bem como em camadas de passivação e espaçamento em sistemas orgânicos.

Alguns trabalhos realizados previamente utilizando a técnica de ALD para a deposição de filmes finos de óxidos serão apresentados para exemplificar a vasta gama de aplicação dessa técnica no crescimento de filmes finos. Dentre os trabalhos realizados podemos destacar o crescimento de multicamadas de óxidos, dispositivos orgânicos como transistores (TFTs) e diodos emissores de luz (OLEDS), e finalmente a possibilidade da deposição seletiva de óxidos utilizando substratos orgânicos.

Data: 23 de junho de 2017 – (sexta-feira) – Local: Sala 212 – Auditório do Departamento de Física – Horário: 10h10min