(Português) Programa de Pós-Graduação em Física da UFSC, Florianópolis

EL PROGRAMA DE POSGRADO EN FÍSICA invita a todos para lo seminario:

  Atomic Layer Deposition: Fundamentos e perspectivas  

Muriel de Pauli

UFSC/FSC –  Post-doctorado

 Resumen:

Neste seminário serão apresentados os princípios gerais do crescimento de filmes finos utilizando a técnica de deposição de camada atômica – Atomic Layer Deposition (ALD). Além disso, iremos discutir perspectivas de trabalhos utilizando filmes finos depositados através da técnica e quais são os parâmetros relevantes durante o processo de crescimento. O controle preciso da espessura do filme, o recobrimento conforme e a larga janela térmica de quimisorção permitem que esta técnica possa ser aplicada para diferentes classes de materiais. Filmes de óxidos obtidos a partir de ALD são largamente utilizados como recobrimentos protetores, barreiras isolantes em dispositivos eletrônicos bem como em camadas de passivação e espaçamento em sistemas orgânicos.

Alguns trabalhos realizados previamente utilizando a técnica de ALD para a deposição de filmes finos de óxidos serão apresentados para exemplificar a vasta gama de aplicação dessa técnica no crescimento de filmes finos. Dentre os trabalhos realizados podemos destacar o crescimento de multicamadas de óxidos, dispositivos orgânicos como transistores (TFTs) e diodos emissores de luz (OLEDS), e finalmente a possibilidade da deposição seletiva de óxidos utilizando substratos orgânicos.

 Fecha: 23 de junio de 2017- (viernes) – Lugar: Sala 212 – Auditorio del Departamento de Física – Horário: 10h10min