THE PHYSICS GRADUATE PROGRAM invites everyone to the seminar: 

Professor of the Departament of Physics UFSC

  Emaranhamento Quântico na Ótica: como produzir feixes e fótons emaranhados em laboratório  

Renné Medeiros de Araújo / UFSC

 Abstract:

O emaranhamento é um fenômeno que emerge naturalmente da Teoria Quântica, formulada no primeiro terço do século passado. A estranheza deste fenômeno foi rapidamente apontada por Einstein, Podolski e Rosen, num famoso artigo de 1935, que chegaram a sugerir, devido a tal estranheza, que a Mecânica Quântica não poderia ser uma teoria completa.

Neste seminário, veremos como o emaranhamento quântico e a completeza da Mecânica Quântica se tornaram fatos hoje amplamente aceitos em virtude das diversas evidências experimentais disponíveis. Veremos também como se manifesta o emaranhamento no ramo da Ótica e quais os princípios físicos e dispositivos básicos envolvidos na produção experimental de feixes e fótons emaranhados. Por fim, mostrarei algumas das diversas aplicações do emaranhamento nos ramos da Comunicação e da Computação Quânticas.

Date: July 7, 2017 – (friday) – Place: Sala 212 – Auditório do Departamento de Física – Time: 10:15 am

The Physics Graduate Program invites everyone to:

 Defense of Doctoral Thesis

 Tiago Boff Pedro

ESTUDO DE MODELO EPIDEMIOLÓGICO COMPETITIVO COM DINÂMICA ESTOCÁSTICA NÃO-MARKOVIANA

Defense Committee:

Prof. Dr. Wagner Figueiredo – (president) – UFSC/FSC

Prof. Dr. Carlos Eduardo Fiore dos Santos – (external member) – IF/USP

Prof. Dr. Jeferson Jacob Arenzon – (external member) –  IF/UFRGS

Prof. Dr. Marcio Santos – (membro titular) – UFSC/FSC

Prof. Dr. Paulo Juliano Liebgott – (local member) – UFSC/FSC

Prof. Dr. Lucas Nicolao – (local member) – UFSC/FSC

Prof. Dr. Nilton da Silva Branco – (supplementary member)- UFSC/FSC

Date: June 27, 2017 – tuesday – Times: 2:00 pm – Place: Sala 114 – Sala de Reuniões do Departamento de Física

THE PHYSICS GRADUATE PROGRAM invites everyone to the seminar: 

  Atomic Layer Deposition: Fundamentos e perspectivas 

Muriel de Pauli

UFSC/FSC – Post-doc

 Abstract:

Neste seminário serão apresentados os princípios gerais do crescimento de filmes finos utilizando a técnica de deposição de camada atômica – Atomic Layer Deposition (ALD). Além disso, iremos discutir perspectivas de trabalhos utilizando filmes finos depositados através da técnica e quais são os parâmetros relevantes durante o processo de crescimento. O controle preciso da espessura do filme, o recobrimento conforme e a larga janela térmica de quimisorção permitem que esta técnica possa ser aplicada para diferentes classes de materiais. Filmes de óxidos obtidos a partir de ALD são largamente utilizados como recobrimentos protetores, barreiras isolantes em dispositivos eletrônicos bem como em camadas de passivação e espaçamento em sistemas orgânicos.

Alguns trabalhos realizados previamente utilizando a técnica de ALD para a deposição de filmes finos de óxidos serão apresentados para exemplificar a vasta gama de aplicação dessa técnica no crescimento de filmes finos. Dentre os trabalhos realizados podemos destacar o crescimento de multicamadas de óxidos, dispositivos orgânicos como transistores (TFTs) e diodos emissores de luz (OLEDS), e finalmente a possibilidade da deposição seletiva de óxidos utilizando substratos orgânicos.

Date: June 23, 2017 – (friday) – Place: Sala 212 – Auditório do Departamento de Física – Time: 10h10min