EL PROGRAMA DE POSGRADO EN FÍSICA invita a todos para lo seminario:
Professor del Departamento de Física da UFSC
Emaranhamento Quântico na Ótica: como produzir feixes e fótons emaranhados em laboratório
Renné Medeiros de Araújo / UFSC
Resumen:
O emaranhamento é um fenômeno que emerge naturalmente da Teoria Quântica, formulada no primeiro terço do século passado. A estranheza deste fenômeno foi rapidamente apontada por Einstein, Podolski e Rosen, num famoso artigo de 1935, que chegaram a sugerir, devido a tal estranheza, que a Mecânica Quântica não poderia ser uma teoria completa.
Neste seminário, veremos como o emaranhamento quântico e a completeza da Mecânica Quântica se tornaram fatos hoje amplamente aceitos em virtude das diversas evidências experimentais disponíveis. Veremos também como se manifesta o emaranhamento no ramo da Ótica e quais os princípios físicos e dispositivos básicos envolvidos na produção experimental de feixes e fótons emaranhados. Por fim, mostrarei algumas das diversas aplicações do emaranhamento nos ramos da Comunicação e da Computação Quânticas.
Fecha: 07 de julio de 2017- (viernes) – Lugar: Sala 212 – Auditorio del Departamento de Física – Horário: 10h15min
El programa de Posgrado en Fisica invita a todos para la:
Sustentación de Tesis
Tiago Boff Pedro
ESTUDO DE MODELO EPIDEMIOLÓGICO COMPETITIVO COM DINÂMICA ESTOCÁSTICA NÃO-MARKOVIANA
Jurados:
Prof. Dr. Wagner Figueiredo – (presidente) – UFSC/FSC
Prof. Dr. Carlos Eduardo Fiore dos Santos – (miembro externo) – IF/USP
Prof. Dr. Jeferson Jacob Arenzon – (miembro externo) – IF/UFRGS
Prof. Dr. Marcio Santos – (membro titular) – UFSC/FSC
Prof. Dr. Paulo Juliano Liebgott – (miembro titular) – UFSC/FSC
Prof. Dr. Lucas Nicolao – (miembro titular) – UFSC/FSC
Prof. Dr. Nilton da Silva Branco – (miembro suplente) – UFSC/FSC
Fecha: 27 de junio de 2017 – martes – Horario: 2:00 pm – Lugar: Sala 114 – Sala de Reuniones del Departamento de Física
EL PROGRAMA DE POSGRADO EN FÍSICA invita a todos para lo seminario:
Atomic Layer Deposition: Fundamentos e perspectivas
Muriel de Pauli
UFSC/FSC – Post-doctorado
Resumen:
Neste seminário serão apresentados os princípios gerais do crescimento de filmes finos utilizando a técnica de deposição de camada atômica – Atomic Layer Deposition (ALD). Além disso, iremos discutir perspectivas de trabalhos utilizando filmes finos depositados através da técnica e quais são os parâmetros relevantes durante o processo de crescimento. O controle preciso da espessura do filme, o recobrimento conforme e a larga janela térmica de quimisorção permitem que esta técnica possa ser aplicada para diferentes classes de materiais. Filmes de óxidos obtidos a partir de ALD são largamente utilizados como recobrimentos protetores, barreiras isolantes em dispositivos eletrônicos bem como em camadas de passivação e espaçamento em sistemas orgânicos.
Alguns trabalhos realizados previamente utilizando a técnica de ALD para a deposição de filmes finos de óxidos serão apresentados para exemplificar a vasta gama de aplicação dessa técnica no crescimento de filmes finos. Dentre os trabalhos realizados podemos destacar o crescimento de multicamadas de óxidos, dispositivos orgânicos como transistores (TFTs) e diodos emissores de luz (OLEDS), e finalmente a possibilidade da deposição seletiva de óxidos utilizando substratos orgânicos.
Fecha: 23 de junio de 2017- (viernes) – Lugar: Sala 212 – Auditorio del Departamento de Física – Horário: 10h10min
