Graduate Program in Physics at UFSC, Florianópolis

THE PHYSICS GRADUATE PROGRAM invites everyone to the seminar: 

  Atomic Layer Deposition: Fundamentos e perspectivas 

Muriel de Pauli

UFSC/FSC – Post-doc

 Abstract:

Neste seminário serão apresentados os princípios gerais do crescimento de filmes finos utilizando a técnica de deposição de camada atômica – Atomic Layer Deposition (ALD). Além disso, iremos discutir perspectivas de trabalhos utilizando filmes finos depositados através da técnica e quais são os parâmetros relevantes durante o processo de crescimento. O controle preciso da espessura do filme, o recobrimento conforme e a larga janela térmica de quimisorção permitem que esta técnica possa ser aplicada para diferentes classes de materiais. Filmes de óxidos obtidos a partir de ALD são largamente utilizados como recobrimentos protetores, barreiras isolantes em dispositivos eletrônicos bem como em camadas de passivação e espaçamento em sistemas orgânicos.

Alguns trabalhos realizados previamente utilizando a técnica de ALD para a deposição de filmes finos de óxidos serão apresentados para exemplificar a vasta gama de aplicação dessa técnica no crescimento de filmes finos. Dentre os trabalhos realizados podemos destacar o crescimento de multicamadas de óxidos, dispositivos orgânicos como transistores (TFTs) e diodos emissores de luz (OLEDS), e finalmente a possibilidade da deposição seletiva de óxidos utilizando substratos orgânicos.

Date: June 23, 2017 – (friday) – Place: Sala 212 – Auditório do Departamento de Física – Time: 10h10min